自动湿法清洗台厂家介绍干法清洗

自动湿法清洗台厂家在介绍干法清洗时，通常会强调其在半导体制造过程中的重要性和应用。为此我们从干法清洗定义、优势、应用等等方面来给大家做一个综合介绍。

什么是干法清洗：

干法清洗是一种不依赖液态化学品和水的清洗方法，主要利用气体或等离子体与晶圆表面进行物理或化学反应，以去除污染物。

干法清洗的主要技术：

气相化学法：包括热氧化法和等离子清洗法等。这些方法通过将热化学气体或等离子态反应气体导入反应室，使气体与晶圆表面发生化学反应，生成易挥发性反应产物，并通过真空系统抽走。

氩溅射：通常在溅射淀积前现场进行，用于去除晶圆表面的污染物。

干法清洗的优势：

环保性：相比湿法清洗，干法清洗减少了化学品和去离子水的使用量，从而降低了环境污染的风险。

适用性：对于某些特定类型的污染物，如有机污染物和颗粒物，干法清洗可能更为有效。

灵活性：干法清洗可以在不同工艺阶段进行，如沉积、光刻之前或之后，以满足不同的清洗需求。

干法清洗的应用：

干法清洗广泛应用于半导体制造的各个制程中，特别是在需要高精度和高洁净度的场合。例如，在CI包容环境中退火就是一种典型的热氧化过程，常用于去除晶圆表面的氧化物。

干法清洗与湿法清洗的结合：

在某些情况下，干法清洗和湿法清洗可以结合使用，以达到最佳的清洗效果。例如，可以先用湿法清洗去除大部分污染物，再用干法清洗进一步去除残留物。