硅片清洗机中硅片清洗的原理

发布日期：2020-05-06 内容来源于：http://www.szsi-tech.com.cn/

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【硅片清洗机 】中硅片清洗的原理

清洗剂一般为双组份产品，A剂主要有钾盐、缓蚀剂、助洗剂组成，B剂主要由表面活性剂聚合复配而成。一般客户根据清洗的工艺直接将清洗剂添加到纯水中，温度通常设定在45-65℃之间，清洗的时间不低于2分钟，一般为3-4分钟。添加清洗剂时，按照水的比例计算，当遇到磨光碾磨膏硅片及回收悬浮液切割的硅片应当增加清洗剂的药量，保证硅片清洗的作用。