掩模板清洗机工作原理介绍

掩模板清洗机是一种专门用于清洗掩模板的设备，目前已经应用在半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等领域。那么，这么一个机器大家一定好奇的是，如何工作的呢?那就是为大家揭晓掩模板清洗机工作原理的时候了。

一起来看看，掩模板清洗机到底是怎么样工作的：

掩模板清洗机的工作原理主要基于兆声技术和化学试剂的辅助作用，通过高频振动与化学溶剂的结合，实现对掩模板上污染物的有效去除。

兆声技术的应用利用的是兆声频率范围内的高频振动（通常在800KHz左右），这一频率远高于传统的超声波清洗机。这种高频振动能够产生强大的能量，使得液体中的微小气泡迅速形成并破裂，从而产生强烈的冲击力，有效剥离掩模板上的污染物。

能量分布更加均匀，能够确保整个掩模板表面都能得到充分且一致的清洗效果。这有助于避免因清洗不均而导致的局部污染残留问题。

在兆声清洗过程中，通常会配合使用特定的化学试剂来增强清洗效果。这些化学试剂能够溶解或软化掩模板上的顽固污渍，如光刻胶残留、有机污染物等。

化学试剂的选择和使用量需要根据掩模板的具体材质和污染物类型进行精确控制，以确保既能有效清洗又不会对掩模板造成损害。