氧化镓清洗机工作原理介绍

研究了不少清洗机了，大家是不是跟小编一样，一直对一款清洗机很好奇--氧化镓清洗机。好奇的是这是一款什么样的清洗机，到底是如何工作的呢？那么就必须提一下，氧化镓清洗机工作原理是什么。一起来了解一下吧！

氧化镓清洗机工作原理介绍

主要基于化学和物理相结合的方法，旨在有效去除氧化镓晶片表面的污渍、金属杂质以及其他残留物。

化学清洗

多种清洗液的使用：在氧化镓清洗过程中，会使用到多种特定的清洗液，如包含硫酸、双氧水和去离子水的清洗液Ⅰ，用于去除晶片表面的金属、石蜡等杂质；包含氨水、双氧水和去离子水的清洗液Ⅱ，用于去除研磨后的细小晶颗粒以及灰尘、油污等；包含氢氟酸和去离子水的清洗液Ⅲ，用于去除抛光液残留的硅溶胶和二氧化硅颗粒；以及包含盐酸、双氧水和去离子水的清洗液Ⅳ，用于去除Fe、Mg、Zn和Al等金属离子。

化学反应：这些清洗液中的化学成分能够与晶片表面的污染物发生化学反应，从而将其溶解或分解，达到清洗的目的。

物理清洗

超声清洗：在化学清洗之后，通常会采用超声清洗的方式进一步去除残留的污渍。超声波在液体中传播时会产生空化效应，即液体中的微小气泡在超声波的作用下迅速膨胀并破裂，产生强大的冲击力和微射流，这种力量足以将晶片表面的污渍振落下来。

机械搅拌与喷淋：在某些清洗装置中，还会通过旋转电机带动旋转盘和夹具机构进行旋转，同时配合多组清洗喷管对晶片进行喷淋清洗，以增强清洗效果。

温度控制

清洗过程中，不同的清洗液需要在不同的温度下使用，以达到最佳的清洗效果。例如，清洗液Ⅰ的温度可能控制在80℃左右，而清洗液Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ的温度则根据具体需求进行调整。