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外延清洗机技术参数

发布日期:2024-11-08 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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大家都知道,在半导体生产制造过程中无法离开一定就是清洗机。那么在晶圆行业中,芯片等生产中,大家最常使用的一定就是外延清洗机了。那么,你们知道这台机器有什么样的参数标准吗?


毕竟从参数中,我们可以看到制造外延清洗机厂家的技术实力,也能让打算采购的童鞋,有一点考核与验收的标准。既然大家好奇,我们就来跟大家分享一下重要的技术参数吧!


主要分享的是清洗方式、控制技术、安全系统等,其他细节的,可能会因为你的需求不同,出现数值差异,并不影响清洗机的实力与效果。


外延清洗机技术参数.jpg


清洗方式


喷淋与旋转结合:通常采用喷淋和旋转相结合的方式,这种方式可以确保更全面和均匀的清洗效果。


超声波清洗:利用超声波在液体中的空化作用产生的能量来去除微粒和杂质。


控制技术


PLC控制:使用可编程逻辑控制器(PLC)进行操作控制,实现精确控制和远程监控,提高操作效率和安全性。


软件互锁功能:通过多重软件互锁功能,确保清洗过程的稳定性和高效性。


安全系统


排风系统:设计有排风系统,有助于维持设备内部的空气质量,防止有害气体积聚。


漏液检测系统:漏液检测系统可以及时发现并处理可能的泄漏问题,保障设备安全运行。


相关标签: 硅片清洗机 自动湿法清洗台 晶片清洗机

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