基于PLC的硅片清洗设备流量控制方法

                                            基于PLC的硅片清洗设备流量控制方法

在半导体硅片清洗设备中常用的几种流量控制方法,主要包括工艺腔室和药液配比的流量控制,然后根据不同应用场景提出了对应使用的控制方法。

  1.     单腔室【硅片清洗机】直接采用流量作为反馈信号进行闭环控制,通过控制喷洒和返回管路开度的平衡,有利于减小气动阀切换时液体流量的波动幅度。

  2.     多腔室清洗机采用压力闭环的控制方式来间接控制流量,磁悬浮泵串联控制设计可有效增加泵的使用寿命和压力稳定性,并通过调节各腔室针阀,减小了各个腔室工艺流量的差异性。

  3.     多种药液配比功能一般通过控制各药液的注入流量来实现,流量精度直接影响药液成分的精度。基于可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)的设备集成控制具有使用灵活、稳定性好、可靠性高的特点,适用于不同控制单元的实时、无误控制。