湿法清洗/刻蚀机

湿法清洗/刻蚀机是一种专门用于半导体、微电子等领域的精密设备，主要利用化学溶液进行材料的清洗和刻蚀处理。

工作原理 

化学反应：湿法清洗/刻蚀机通过将待处理的材料浸泡在特定的化学溶液中，使溶液与材料表面的污染物或需要刻蚀的部分发生化学反应，从而去除这些物质。 

选择性蚀刻：部分湿法清洗/刻蚀机能够实现选择性蚀刻，即只针对特定区域或材料进行蚀刻，而不影响其他区域或材料。这种选择性通常通过控制化学溶液的浓度、温度和蚀刻时间来实现。 

结构组成 

耐腐蚀机架：作为设备的支撑结构，确保设备的稳定性和耐用性。 

酸槽、水槽、干燥槽：分别用于容纳化学溶液、去离子水和进行干燥处理。 

控制单元：负责设备的自动化控制，包括溶液的更换、补液、加热控制等。 

排风单元：用于排除设备运行过程中产生的废气和有害气体，确保操作环境的安全。 

气体和液体管路单元：用于输送和控制化学溶液及去离子水的流动。