硅片清洗机用后如果漂洗槽内被油污污染经烘干后的样子

【硅片清洗机】用后如果漂洗槽内被油污污染经烘干后的样子

油状污点或污带，
在一般情况下，硅片表面层所吸附的杂质粒子处于动态平衡状态 , 吸附在硅片表面上的杂质可分为分子型、离子型和原子型三种情况。其中分子型杂质与硅片表面之间的吸附力较弱，消灭这类杂质粒子比较容易。它们多属油脂类杂质，具有疏水性的特点，
硅片表面是硅晶体的一个断面，由结晶学可知，这个表面所有的晶格都处于破坏状态，即有一层或多层硅原子的键被打开，呈现一层到几层的悬挂键，又称之为不饱和键。由物化性质可知，非饱和化学键化学活性高，处于不稳定状态，极易与周围的分子或原子结合起来，这就是所谓的“吸附”。被吸附的杂质粒子并不是固定不动的，而是在其平衡位置附近不停地振动着，其中一些被吸附的杂质粒子由于获得较大的动能而脱离硅片表面，重新回到周围介质（如空气）中去，这种现象称为“解吸”。与此同时，在介质中的另一些粒子又会在硅片表面上重新被吸附。