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全自动槽式清洗机的特点及用途

发布日期:2024-09-24 内容来源于:http://www.szsi-tech.com.cn/

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目前全自动槽式清洗机被广泛应用在集成电路、MEMS和光伏领域的CMP后清洗工艺。该清洗机可对晶圆片表面、背面、边缘进行清洁。自主创新的兆声清洗技术可以去除附着在晶圆表面的细颗粒污染物,实现去除。可提供多罐化工液体或纯水,结合喷涂、溢流、快速清洗等清洗方式,配合先进的IPA干燥方式,可同时对应25或50件进行工艺处理。


当然你如果对于它了解不够详细的话,我们下面就来为大家介绍全自动槽式清洗机的特点及用途


产品特点:


智能控制系统:全自动槽式清洗机配备了先进的传动控制系统,能够实现精准控制,从而保证清洗过程的稳定性和重复性。


自动供液系统:具备自动化学品集中供液系统(CDS),这不仅提高了化学品的使用效率,还通过精确控制化学品的供给,优化了清洗效果。


溢液设计:采用溢液设计不仅减少了清洗过程中的液体消耗,也有效降低了运营成本。


高清洗率:全自动槽式清洗机拥有≥99%的高清洗率,确保了极高的清洗质量。


多组合清洗工艺:可根据不同的清洗需求配置多种清洗方式,如喷涂、溢流、快速清洗等,极大地增强了设备的适用性和灵活性。


颗粒控制能力:设备能有效控制≥0.1μm的颗粒数量,每片晶圆上的颗粒少于15个,这对于高精度的半导体生产尤为重要。


药液罐双罐设计:采用双罐设计可以实现精确的温度控制,防止药液泄漏,保证了清洗过程的安全性与可靠性。


废液排气独立控制:独立的废液排气控制系统可以有效地保护操作人员的安全,避免直接接触有害化学物质。


对于用途可以归结为以下几点:


集成电路制造:在集成电路制造过程中,全自动槽式清洗机用于去除晶圆表面的微小颗粒、残留物和其他污染物,以保证电路的准确性和可靠性。


微机电系统清洁:MEMS器件往往具有复杂的微观结构,全自动槽式清洗机能深入这些难以触及的区域进行彻底清洗。


光伏行业应用:在光伏行业中,该设备用于清洗硅片,去除加工过程中产生的杂质,提高太阳能电池的效率。


精密金属部件加工:除了半导体和光伏行业,全自动槽式清洗机也广泛应用于其他需要高精度清洗的领域,如精密机械部件的生产和保养。


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