​关于各种硅片清洗机清洗方法及其最新发展方向介绍

当前，我国光伏产业发展迅速，我国的太阳能电池年生产量在全球排·名第·一。太阳能硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响，所以人们对太阳能硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中，表面会受到不同程度的污染，比如颗粒、金属离子以及有·机物。如果没有处理好这些污染的话，器件性能会受到很大程度的影响。目前，制造总损失的一半是因为硅片清洗机清洗不当引起的器件失效。因此，人们对太阳能硅片清洗技术的研究在不断的深入。本文将对硅片表面污染类型进行简单的介绍，在此基础上阐述几种常用的太阳能硅片清洗方法及其最新发展方向。

硅片加工表面污染类型

硅片污染发生的概率比较大，因为在硅片加工过程中，不可能做到无污染的程度。污染途径可能来源于大气、水、使用的化学试剂、人以及加工过程中。污染物可以分为以下几种类型:颗粒、有·机物和金属。

1）颗粒:颗粒的类型主要是一些聚合物、光致抗蚀剂等；

2）有·机物:它可以有很多种存在方式,如润滑油、松香、蜡等。如果这些物质没有得到有效清洗的话，后面的加工过程会受到很大影响；

3）金属:它在硅片上主要以共价键、范德华引力和电子转移等三种形式存在。金属的存在会破坏掉氧化层,导致雾状缺陷或微结构缺陷。

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