硅片清洗机硅片清洗的技巧

硅片清洗机硅片清洗的技巧

清洗方法是:硅片清洗机首先将硅片浸泡在成膜溶液中成膜溶液与脏的硅片反应在硅片上形成一层膜然后将硅片浸泡在膜剥离溶液中去除膜。对于硅片成膜溶液和脱膜溶液都可以由分别由49%重量的HF和70%重量的HNO3组成的单独的水溶液形成。

新锯、研磨或研磨的硅片非·常脏如果后续的electronic设备制造过程要成功就必须清洗。硅片清洗机过程中硅片上的污垢成分中有锭子油;硅粒子;硅粉;冷却溶液包括湿润剂;研磨抛光砂;环氧树脂浇铸化合物;人类手指指纹可能还有其他材料。

通过使用两步清洗过程本发明克服了现有技术的硅片清洗机晶圆清洗解决方案的上述问题。这个过程将清洗所有类型的晶圆片并且不会显著地从重掺杂的p型晶圆片中滤出掺杂剂。这种清洗过程对任·何工作损坏的表面都特别有用但不限于工作损坏的表面。

首先晶圆被处理成膜溶液它与晶圆和/或污垢反应在晶圆表面形成一层膜。硅片zui好在去离子水中漂洗然后浸入膜剥离溶液中去除第·一溶液形成的膜使硅片保持干净。硅片清洗机成膜溶液和脱膜溶液均可由分离的水溶液配制而成该水溶液分别由重量为49%的HF和重量为70%的HNO3组成。

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