影响【硅片清洗机】的清洗效果因素

影响【硅片清洗机】的清洗效果因素

一、频率

针对不同的清洗物件，选择不同的超声频率。例：五金、机械、汽摩、压缩机等行业或重度污染的一般物件的清洗多采用20KHz频率的清洗器；光学、光电子、线路板、实验室一般器皿多采用40KHz的频率；计算机微电子元件、集成电路芯片、硅片及波薄膜等精洗多采用80KHz或更高频率，能去除微米、亚微米级的污物并对清洗样品没有损伤。

二、功率

产品容量与超声功率成正比（超声功率为0.3-0.5W/cm2）；高功率产品多用于五金、机械等行业或重度污染的一般物件的清洗（超声功率为0.5-1W/cm2）。

三、时间

不同的清洗物件应设定不同的清洗时间，选择合适的时间（一般清洗时间为10-20min）有利于对清洗样品的更好清洗；时间过长会导致清洗样品表面产生空化斑，影响表面光洁度。时间过短，会导致无法清洗干净。

四、温度

由于每种器件的物理特性不一样，所以我们在清洗时应选定不同的清洗温度，比如油脂类的一般在50℃以上为宜；铝件，一般选择40℃左右为宜，温度过高，会形成氧化斑；毛刺类的一般选定15℃以下为宜。唯一的恒温技术，保证清洗物件在恒定的温度环境下工作不被损伤（本公司恒温产品恒定温度为0-80℃，±2℃）。

五、清洗液

常规清洗溶液（介质）有：水基型溶液、酒精、汽油等有机溶液。

现代的超声清洗剂是各种去垢剂、浸润剂及其它一些反应成份的混合物。已有很多种优良的、有针对性的清洗剂可供选择。要达到合宜的清洗作用并避免（清洗液）与被清洗物件反应，正确选择清洗剂是很重要的。