用超纯水清洗【硅片清洗机】中硅片的原因

                        用超纯水清洗【硅片清洗机】中硅片的原因

1.   硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗，清洗的目的在于消灭表面污染杂质，包括有机物和无机物，否则微量污染也会导致器件失效百。

2.   超纯水开始是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化度、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。

3.   硅片清洗对水质要求很高，电阻率达18兆以上，而超纯水是首选。超纯水是一般工艺很难达到的程度，水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm则称版为超纯水。超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质权几乎都去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除到很低程度的水处理设备。