硅片清洗机中硅片表面污渍的日常监控

【硅片清洗机】中硅片表面污渍的日常监控

一.  在进行日常的生产时，首先需准备少量洁净的硅片（如10片），每天在进行正常的硅片清洗前，对该10个桂片进行清洗，且在清洗前后对该硅片进行表面颗粒的检查，然后对测试结果进行分析。

二.  如果发现清洗后硅片表面的颗粒数跟金属沾污较清洗前减少或无清楚变化，则表面清洗设备工作正常，可以进行正常的硅片清洗；如果发现清洗后硅片表面颗粒数跟金属沾污较清洗前清楚增加，则表明清洗机工作常，需进行相应的维护。

三.  针对此工作也可以根据生产的具体情况对其即进行SPC控制，即：颗粒去除数=清洗后颗粒数-清洗前颗粒数