硅片清洗机关键部件介绍

虽然说硅片清洗机是一台比较精密的仪器，但是仪器虽然精密核心部件也不过如此。今天我们就来给大家介绍一下，到底硅片清洗机有哪些核心部件吧！

硅片清洗机的关键部件主要包括以下几类：

清洗腔

功能作用：是硅片清洗的主要工作区域，为硅片提供特定的清洗环境。通常由耐腐蚀、耐高温的材料制成，如不锈钢等，以满足不同化学清洗液和清洗工艺的要求。

设计特点：其内部结构设计要确保硅片在清洗过程中能够均匀地接触到清洗液和受到喷淋、刷洗等清洗动作的作用，同时要避免硅片在清洗腔内出现碰撞、刮擦等情况，防止对硅片造成损伤。

喷淋系统

高压喷嘴：利用高压技术将化学清洗剂以高速均匀地喷射到硅片表面，通过强大的机械力去除颗粒污染物。高压喷嘴的设计和布局直接影响清洗的均匀性和效果，需要根据硅片的尺寸、形状以及清洗要求进行合理的配置。

喷淋管道与泵：负责将清洗液输送到高压喷嘴，并保证清洗液的流量和压力稳定。喷淋管道通常采用耐腐蚀的材料，如聚四氟乙烯（PTFE）、聚偏氟乙烯（PVDF）等，以防止清洗液对管道的腐蚀。

清洗液循环系统

清洗槽：用于存储和供应清洗液，不同类型的清洗槽可针对不同的清洗阶段和要求提供特定环境下的清洗或处理。例如，有常温化学槽、加热化学槽、超声槽、兆声槽等，分别用于不同的清洗工艺步骤。清洗槽的材料选择要根据清洗液的性质来确定，如石英玻璃可用于需加热的强酸强碱清洗，而 NPP 材料一般用于常温下的弱酸弱碱清洗。

循环过滤系统：使清洗液在系统中循环使用，提高清洗液的利用率，降低成本。同时，循环过滤系统还可以去除清洗液中的杂质和颗粒，保持清洗液的清洁度和有效性，延长清洗液的使用寿命。

热交换器：在一些需要对清洗液进行加热或冷却的清洗工艺中，热交换器起着关键作用。它可以精确控制清洗液的温度，以满足不同清洗工艺对温度的要求，确保清洗效果的稳定性和一致性。

控制系统

传感器：实时监测清洗过程中的各种参数，如温度、压力、溶液浓度、流量等，并将这些参数反馈给控制系统。传感器的精度和可靠性直接影响控制系统对清洗过程的监控和调节能力。

控制器与软件算法：根据预设的程序和传感器反馈的参数，自动控制清洗机的各个部件的运行，包括清洗时间、喷淋压力、清洗液流量、温度控制等。先进的控制软件算法可以实现对清洗过程的精确优化和自动化调整，提高清洗效率和质量的一致性。

携带与传输系统

晶舟承载器：用于装载硅片，并将其准确地输送到清洗腔内的指定位置进行清洗。晶舟承载器的设计要保证硅片在装载和传输过程中的稳定性和安全性，避免硅片受到振动、碰撞或污染。

传递盒：在硅片的不同加工工序之间，用于安全地转移硅片。传递盒通常具有良好的密封性和抗腐蚀性能，以防止硅片在转移过程中受到外界环境的影响。

机械手：一些先进的硅片清洗机配备机械手，用于自动抓取、转移和放置硅片，实现清洗过程的全自动化。机械手的动作精度和灵活性对于提高生产效率和减少人工操作带来的误差非常重要。

干燥系统

旋转甩干装置：通过高速旋转将硅片表面的水分甩干，初步去除大部分水分。旋转速度和时间可以根据硅片的具体情况进行调整，以确保良好的甩干效果。

热风干燥装置：利用热风对硅片进行进一步的干燥处理，使硅片表面的水分快速蒸发。热风的温度和风速需要合理控制，避免过高的温度或过强的风速对硅片造成损伤。

红外线干燥装置：采用红外线辐射的方式对硅片进行干燥，具有高效、均匀的优点。红外线干燥可以在短时间内将硅片表面的水分去除干净，且不会对硅片的性能产生影响。

特殊部件

兆声换能器：在一些采用兆声清洗技术的硅片清洗机中，兆声换能器是核心部件之一。它将电能转化为高频声能，产生兆声波，通过液体介质作用于硅片表面，增强清洗效果。兆声换能器的性能和工作频率对清洗效果有着重要影响。

真空腔体与等离子发生器：部分硅片清洗机采用等离子清洗技术，真空腔体用于创造低气压环境，等离子发生器则为反应气体提供能量，使其激发成等离子体，对硅片表面进行清洗和处理。这种清洗方式可以有效地去除有机污染物和氧化层等。