rca清洗液主要有哪几种成分

RCA清洗离不开的就是清洗液，那么你们知道这清洗液都有哪些成分构成吗？

小编为了谨慎解答大家的问题，我们查了资料，下面就来给带做一个科普。RCA清洗液主要有以下几种成分：

SPM（SC-3）：这是一种含硫酸的酸性过氧化氢溶液，用于去除有机物。其配方通常为H2SO4、H2O2和H2O的混合物。

APM（SC-1）：这是一种含胺的弱碱性过氧化氢溶液，用于碱性氧化，去除硅片上的颗粒，并可氧化及去除表面少量的有机物和金属原子污染。其配方通常为NH4OH、H2O2和H2O的混合物。

DHF：这是稀氢氟酸溶液，用于去除硅片表面的自然氧化膜，同时将吸附在氧化层上的微粒及金属去除。其配方为HF和H2O的混合物。

HPM（SC-2）：这是一种含盐酸的酸性过氧化氢溶液，用于酸性氧化，能溶解多种不被氨络合的金属离子，对Al3+、Fe3+、Mg2+、Zn2+等离子的去除有较好效果。其配方通常为HCl、H2O2和H2O的混合物。