什么是掩模板清洗机

看着清洗机三个字，我们往往觉得很简单，但一牵扯到半导体。我们就知道了不简单！为此，大家最近看到了一个掩模板清洗机，很想知道的是，这是一款什么样的清洗机。我们想要了解到，那就现在开始吧，一定是一个好机会，让大家全面了解它。

什么是掩模板清洗机？

掩模板清洗机是用于清洁光刻工艺中掩模版的专用设备。基本主要工作分为日常清洗与强力清洗两种。

日常清洗：使用丙酮和异丙醇（IPA）进行定期清洁。操作时，将掩膜版分别浸泡在这两种溶剂中，通过手动搅拌和漂洗去除表面的杂质和颗粒物。

强力清洗：当日常清洗无法彻底去除残留物时，会采用更为强力的清洗方法，如使用5:1 – 100°C的食人鱼溶液（过氧化氢与硫酸的混合物）进行强力清洁。这种清洗方式能够更有效地去除掩膜版上的顽固污染物。

主要特点如下：

兆声技术：一些先进的掩模板清洗机采用兆声技术，通过高频振动产生的微小气泡来剥离和去除基片表面的颗粒物。这种技术能够无损地清洗易受损的带图案或无图案的基片，包括带保护膜的掩模版。

化学试剂滴胶系统：部分清洗机还配备了可控的化学试剂滴胶能力，使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。同时，这些系统还支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。

多种选配功能：为了满足不同应用的需求，掩模板清洗机还提供了多种选配功能，如PVA软毛刷机械去除污点和残胶、DI水臭氧化去除有机物、氢化DI水系统达到纳米级颗粒去除等。