rca清洗机清洗机制介绍

RCA清洗机的清洗机制主要基于化学和物理作用的结合，通过一系列精细的步骤来去除晶片表面的污染物。

SC-1清洗液

碱性溶液：SC-1清洗液是一种碱性溶液，主要由水、过氧化氢和氨水组成。这种溶液能够有效去除晶片表面的有机污染物和颗粒物。

化学反应：在SC-1清洗过程中，过氧化氢会与氨水反应生成自由基，这些自由基能够分解有机物，并将其转化为易于清洗的物质。

SC-2清洗液

酸性溶液：SC-2清洗液是一种酸性溶液，由水、过氧化氢和盐酸组成。它主要用于去除晶片表面的金属离子和无机污染物。

溶解作用：在SC-2清洗过程中，过氧化氢与盐酸反应生成氧气和氯离子，这些氯离子能够溶解金属氧化物，从而去除金属污染。

DI水冲洗

去离子水：在每次使用SC-1和SC-2清洗液之后，都需要用去离子水（DI water）进行冲洗，以去除残留的化学物质。

多次冲洗：通常需要进行多次冲洗，确保所有的化学剂都被彻底清除，避免对后续工艺造成影响。

干燥处理

热风干燥：清洗完成后，晶片需要经过热风干燥处理，以去除表面水分，防止水痕和其他残留物影响产品质量。

氮气吹干：在某些情况下，也可以使用氮气吹干的方式，以获得更高的干燥效果和更好的表面质量。

循环机构

液体循环：一些RCA清洗机配备了循环机构，能够使清洗液在清洗缸内部循环流动，提高清洗效率和均匀性。

自动补充：循环机构还可以实现自动补充新鲜清洗液的功能，保持清洗液的浓度和清洁度，延长清洗液的使用寿命。

自动化控制

PLC控制系统：现代RCA清洗机通常配备有PLC控制系统，可以精确控制清洗液的温度、压力、流量等参数，确保清洗过程的稳定性和一致性。

触摸屏操作：触摸屏操作界面使得设备的操作更加直观和便捷，用户可以轻松设置和调整清洗参数。

安全保护

紧急停止按钮：RCA清洗机配备了紧急停止按钮，可以在发生异常情况时迅速停机，保护操作人员和设备的安全。

过载保护：设备还具有过载保护功能，当负载超过设定值时，会自动切断电源，避免设备损坏。