rca清洗属于什么清洗

rca清洗属于什么清洗？如果你好奇这个问题，我们就一一道来，一定给大家科普到位。

RCA清洗是一种广泛使用的湿法化学清洗技术，它利用各种无机或有机化学试剂对晶片表面附着的杂质进行清除。这种清洗方法在半导体、微电子和光电子等高科技产品的制造过程中至关重要，因为它能够有效去除晶片表面的颗粒、有机物和金属离子等污染物，保证晶片表面的清洁度，从而提高产品的性能和可靠性。

主要步骤‌：

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SPM步骤‌ ：使用硫酸和双氧水的混合液（比例为1:1至4:1）在120-150℃下浸泡10分钟，以去除有机物。

‌APM步骤‌：使用氨水、过氧化氢和水的混合液（比例为1:1:5）在70-80℃下浸泡，以去除金属元素并降低表面粗糙度。

‌HPM步骤‌：使用盐酸、过氧化氢和水的混合液（比例为一定比例）在75-80℃下浸泡，以去除重碱离子和阳离子。

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冲洗步骤‌：每一步之后都用去离子水冲洗，以确保彻底去除残留物。