苏州芯矽电子科技有限公司
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很多人好奇,到底湿法清洗机spm注液顺序是怎么样的。其实操作流程与规范上已经标注,但是你依旧存在疑惑的话,我们也是乐于为大家解答。
湿法清洗机SPM注液顺序是先注入硫酸后注入过氧化氢。
在半导体制造过程中,光致抗蚀剂的去除是一个关键步骤,它直接影响到晶片表面的清洁度和后续工艺的质量。SPM(硫酸和过氧化氢的混合物)作为一种有效的清洗剂,被广泛用于去除晶片上的有机残留物。正确的注液顺序对于保证清洗效果至关重要。
在开始注入SPM之前,应确保所有设备和材料都已准备就绪。这包括检查化学品的质量、浓度以及设备的运行状态。操作人员需要穿戴适当的个人防护装备,如防酸碱手套、护目镜等,以确保安全。
在实际操作中,通常的做法是先注入硫酸,这是因为硫酸是一种强酸,能够有效地分解光致抗蚀剂中的有机物质。随后注入过氧化氢,过氧化氢作为氧化剂,可以进一步氧化分解已经由硫酸处理过的有机物,从而达到更彻底的清洗效果。